Użytkownik J.F. napisał:
> On Fri, 20 Aug 2010 00:00:17 +0200, Dariusz K. Ładziak wrote:
>> Użytkownik J.F. napisał:
>>> Takie rzeczy sie oplacaja powyzej pewnej ilosci, gdy stac cie na
>>> zamowienie indywidualnych masek. Podejrzewam ze jakies 100 tys.
>>
>> P.S. Są układy którym trzeba tylko jedną maskę pod potrzeby klienta
>> zmienić -
>
> To bylo chyba i dawniej - nie bylo jakis Gate/transistor array, gdzie
> klient zamawial tylko sciezki polaczeniowe ?

Nawet mi tej nazwy nie przypominaj - dwa razy musiałem taki układ
analizować (raz totalnie, z analogówka robiony w filozofii gate array.
Koszmarny sen analityka...


>
>> a w epoce masek poniekąd programowych (emulsja utwardzana
>> elektrycznie sterowana wiązką elektronów wprost na krzemie)
>
> Ale to chyba kosztowne jest - w sensie - drogie urzadzenie na dluzszy
> czas zajete przy kazdej sztuce ?

A myślisz że poniżej 90 nm to sie chocby i ultrafioletem naświetla?
Tylko bezpośrednia elektronolitografia na krzemie, długo to specjalnie
nie trwa, przecież nikt nie odpompowuje stanowiska z pojedynczą płytką
tylko ze sporym magazynkiem, magazynki do komory roboczej wchodzą przez
system wstępnych śluz próżniowych a na własne oczy w Warszawie widziałem
system pomp (i było to stanowisko badawcze a nie produkcyjne jak
napylarka luster w Zelmocie) które komorę o pojemności mniej więcej
kubika odpompowywały do ciśnienia 10^-4 Tr zdecydowanie poniżej minuty
od ciśnienia atmosferycznego.

Czyli wcale tak drogo nie wychodzi a inaczej przy dużych stopniach
integracji się już chyba nie da (bo co - promieniami Roentgena? - słaby
kontrast masek).

--
Darek